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第1599章（第1页）

缓缓地摇了摇头，他轻声骂了一句“靠北！”

随后，语气中带着一丝狠戾，“那就更不能让他们起这个势头了！”

江尚义点了点头，表示认同。

虽然炎黄集团在半导体产业的具体进度对他们而言是个谜，但内地学界的动向却并非无迹可寻。

那些曾经因资金、技术或政策限制而被迫按下暂停键的课题，如今正纷纷重启，这无疑是一个危险的信号。

“董事长，后发优势不容小觑，他们可以避开我们走过的弯路，直接在我们的基础上进行创新和突破，这能节省大量的时间和资源。”

江尚义进一步解释道，试图让章忠谋更清晰地看到形势的严峻性。

章忠谋沉吟片刻，似乎在权衡利弊，最终他揉了揉自己的鼻翼，似乎下定了决心，

“那就我们也出点资金和设备，这总行了吧，但记住，我们要控股权，这本质上就是生意，借他们的资金和人力资源孵我们的蛋。”

江尚义却深知这其中的复杂与风险，他谨慎地开口，“恐怕不行，这方面阿美莉卡和当局都是有管控的。”

他停顿了一下，继续说道，“再说了，一旦我们投入技术，那么要不了两年，华国便可以学会。

技术这东西，一旦流传出去，就如泼出去的水，难以收回。

何况还有设备，这更是严格管控的物资。

无论是光刻设备还是蚀刻设备，或者是化学气相沉积相关的配套设备，这都是瓦森纳协议严格禁止的东西。

一旦流入到华国，不仅我们的技术优势将荡然无存，夷积电也很可能会陷入被动，甚至面临国际舆论和政策的双重压力，得不偿失。”

章忠谋微微摇头，嘴角勾起一抹意味深长的笑容，

“尚义，这里面有个信息差，你或许还不清楚。

阿美莉卡实际上已经放宽了对华国的限制。

我有确切的消息，因特尔已经将一批技术转让给了炎黄集团。

而这批技术的最新时间点是1994年的。

按照这个时间线以及瓦森纳协定的精神，1993年问世的0.35微米工艺，我们是完全可以在华国生产，而不用担心阿美莉卡的长臂管辖。”

他顿了顿，眼中闪过一丝精光，“而半年前，华国的技术水平还停留在1984年的1.25微米水平。

我们就算他们能采取跳跃式发展，也不可能在短短一年内完成1微米、0.8微米、0.6微米、0.35微米四代工艺的跨越。

说到这里，他哈哈大笑了起来，“更何况他们还在使用436nmG线光源，而且还是接触式路径。”

江尚义听后也露出了笑容。

这是他们曾经走过的老路，是再熟悉不过的。

接触式路径，掩模直接贴在硅片上进行光刻，不仅容易造成污染，而且掩模的使用寿命也相对较短。

后来的接近式光刻技术对此进行了改进，通过在掩模和硅片之间形成一层薄薄的气垫，使两者不再直接接触，提高了良率也提升了掩膜的寿命，这大大的降低了成本。

但气垫的存在，又会影响成像的精度，所以G线光源的最高制程也只能达到0.35微米工艺。

而G线光源的下一代是波长365nm的I线光源，其最高制程工艺可以达到0.25微米。

再往下发展，就必须采用第三代光源，即波长248nm的KrF（氟化氪）准分子激光，它能够实现130nm的制程。

至于第四代光源，则是目前最先进的193nmArF（氟化氩）准分子激光。

按照林本坚的理论，这种光源通过浸入式技术，理论上可以将制程推进到22nm，甚至在孙元成根据DavidMann公司的重复曝光理论推测，还能更低。

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